光罩薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關(guān)鍵部件，指的是在光罩上展開一層薄膜,，然后機(jī)器在上面繪制要在晶圓上壓印的電路,，以免光罩受空氣中微塵或揮發(fā)性氣體的污染,，減少光掩模的損壞。

目前,，光罩薄膜的供應(yīng)商主要是荷蘭ASML,、日本三井化學(xué)和韓國S&S Tech，韓國的EUV薄膜一直被外部廠商壟斷,。

作為晶圓代工大廠,，三星在2021就宣布自研EUV薄膜，并在今年初自主開發(fā)出透光率達(dá)88%的EUV薄膜,。

但是三星并不滿足于此,，因?yàn)槟壳笆袌?chǎng)上也有透光率達(dá)到90%或以上的EUV薄膜，一家是ASML,，另外一家是S&S Tech,。

三星半導(dǎo)體近期發(fā)布的一份招聘通知顯示,，正推動(dòng)開發(fā)透光率為92%的EUV薄膜,，同時(shí)三星也將與外部機(jī)構(gòu)合作，開發(fā)和評(píng)估由碳納米管和石墨烯制成的EUV薄膜,。

三星在晶圓代工領(lǐng)域的老對(duì)手臺(tái)積電在2019年開始,，就使用自己研發(fā)的EUV薄膜，并且在2021年時(shí)宣布,，其EUV薄膜的產(chǎn)能相比2019年將提高20倍,。

有業(yè)內(nèi)人士表示，三星推動(dòng)EUV薄膜的開發(fā),，是為了更快的追趕上臺(tái)積電,。